在传统存储产品方面,10nm以下DRAM制造工艺正成为主流,并逐步向7nm工艺突破,通过“FinFET架构+TSV技术”提升密度、降低功耗。3D NAND堆叠层数突破400层后,“垂直堆叠”难度加剧,厂商转向“水平扩展+架构优化”,比如三星V-NAND的阶梯式架构、Kioxia的BiCS架构,同时引入“HKC(高K介质+金属栅)”技术,解决高层数堆叠的漏电、散热问题,制造工艺从“层数竞赛”转向“架构+工艺”双重竞争。
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根据麦肯锡和贝恩咨询等机构的估计:到2030年AI相关资本支出约5.2万亿美元,再加上传统负载相关资本支出约1.5万亿美元,合计接近7万亿美元,堪比美国联邦年度预算规模;而当前AI市场产生的年度收入约为20亿美元级别。这意味着:投资与收益之间的裂缝接近100倍级别。,更多细节参见同城约会
The tree behind the grid